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    微弧氧化膜層性能測定試驗流程

    文章來源:正航儀器 瀏覽次數(shù): 發(fā)布時間:2014-03-04
     

     
     
     
    目前,國家和有關(guān)部門還沒有輕合金微弧氧化膜性能測試標(biāo)準(zhǔn)。本研究擬采用中華人民共和國原航空航天部部標(biāo)準(zhǔn)HB5062-77《零件化學(xué)氧化膜層質(zhì)量檢驗》作為微弧氧化膜性能檢測的參考依據(jù)。
    一、微弧氧化陶瓷膜的外觀檢驗本課題試驗中迸行微弧氧化膜層的外觀粗略檢查時,參考HB5062-77中所述的膜層外觀檢測的要求來進行測試,對膜層的外觀質(zhì)量進行簡單的評判。具體的外觀質(zhì)量級別評判標(biāo)準(zhǔn)如下表3-1所示。
     

     微弧氧化膜層性能測定試驗
    并使用XP-2TM型表面光度儀測量試樣的表面粗糙度。表面光度儀的掃描半徑為5,垂直分辨率為1~1.5 CM,橫向分辨率為100 NM,可視掃描場為1~4 MM。
    二、耐蝕性能的測定
    浸泡實驗條件如表3-2所示。用TG328A型電光分析天平稱腐蝕增重,天平載荷為200 g,精度為0.1 mg。

    微弧氧化膜層性
     
     
    用PS-1型恒電位/恒電流儀,使用恒電流法測定膜層的陽極腐蝕極化曲線。儀器測量范圍:電壓-2~+2 V,電流0~1 A;測量精度:電位讀數(shù)精度為±1%加減末位一個字,電流讀數(shù)精度為±1.5%加減末位一個字。所用電解液為3.5%NaCl溶液。
    三、耐磨性能的測定
    用自制的摩擦磨損實驗機測膜層的耐磨性能,并用磨損失重表征。TG328A型電光分析天平稱磨損失重,精度為0.1 mg,平行試樣為4個。測定件為微弧氧化試樣及45鋼(840℃淬+150℃回火,HV541),磨損方式為濕磨。
    四、彎曲法測量涂層與基體結(jié)合性能
    為了考察電弧噴涂鋁層在重熔前后與鋼基體的結(jié)合性能,使用彎曲法定性衡量涂層與基體結(jié)合性能的變化情況。對重熔前后的試樣沿著長度方向各進行90℃的彎曲變形,然后反向施力,使之恢復(fù)原狀,如此反復(fù)進行,以彎曲中心部位為觀察區(qū)域,觀察重熔前后的試樣涂層的變化情況。
    五、復(fù)合膜層的抗熱沖擊性能
    實驗通過熱沖擊使膜層從基體上剝落下來,根據(jù)熱沖擊次數(shù)來定性鑒定膜層與基體之間的熱脹匹配。分別采用水冷熱沖擊和空冷熱沖擊的方法。
    (1)空冷熱沖擊
    與上述方法類似,把試樣放入電阻爐中加熱至450℃,保溫5 min后取出空冷3 min,認(rèn)為試樣己足夠冷卻后,再次放入電阻爐中加熱,如此反復(fù)直至膜從基體上脫落。
    (2)水冷熱沖擊
    把試樣放入電阻爐中加熱至450℃,保溫5 min后取出放入水中,l min后取出放入電阻爐中加熱,如此反復(fù),直至膜從基體上脫落。
    六、其它稱量儀器
    用游標(biāo)卡尺測試樣尺寸,計算面積,精度0.02 mm。用Nephot-21型金相顯微鏡測膜層的厚度。放大倍數(shù)為450倍,膜層厚度=顯微鏡內(nèi)讀數(shù)×(0.1/3),取6個點的算術(shù)平均值。
    七、實驗數(shù)據(jù)的處理方法
    本實驗所得到的數(shù)據(jù)都列于附錄中,參見附錄1~附錄9。以后各章實驗結(jié)果中的曲線都經(jīng)過了擬合處理,擬合曲線方程見附錄10。
    本文主要說明了實驗所用的電弧噴涂設(shè)備、感應(yīng)重熔設(shè)備及微弧氧化設(shè)備,并給出了相應(yīng)的裝置示意圖,確定了對電弧噴涂鋁層及微弧氧化陶瓷層進行顯微分析的方法和所用的儀器設(shè)備,確定了測定膜層性能的方法及所用設(shè)備,說明了實驗數(shù)據(jù)的處理方法。(正航儀器編輯總結(jié))http://m.stockvip.cn 
     
     
     
     
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